شبیه سازی عددی جریان و رسوب توسط مدل CCHE2D

اختصاصی از یارا فایل شبیه سازی عددی جریان و رسوب توسط مدل CCHE2D دانلود با لینک مستقیم و پر سرعت .

این فایل شامل اسلاید یک پایان نامه دفاع شده می باشد و شامل 43 اسلاید هست.

جزوه آموزشی روش رسوب دهی شیمیایی (سنتز نانوساختارها)

اختصاصی از یارا فایل جزوه آموزشی روش رسوب دهی شیمیایی (سنتز نانوساختارها) دانلود با لینک مستقیم و پر سرعت .

این فایل حاوی جزوه آموزشی روش رسوب دهی شیمیایی (سنتز نانوساختارها) می باشد که به صورت فرمت PDF در 20 صفحه در اختیار شما عزیزان قرار گرفته است، در صورت تمایل می توانید این محصول را از فروشگاه خریداری و دانلود نمایید.

فهرست
تاریخچه روش CVD
اساس روش CVD
مزایای و معایب روش CVD
کاربرد های فرایند CVD
انواع روش های CVD بر اساس پیش ماده
انواع روش های CVD براساس خصوصیات فیزیکی بخار
انواع روش های CVD براساس فشار
تولید نانومواد با روش رسوب دهی شیمیایی بخار
فرآیند CVD برای تولید مواد نیمه رسانا

تصویر محیط برنامه

 

دانلود پروژه رسوب دهی لایه های نازک سخت ویا نرم 30 ص

اختصاصی از یارا فایل دانلود پروژه رسوب دهی لایه های نازک سخت ویا نرم 30 ص دانلود با لینک مستقیم و پر سرعت .

لینک دانلود و خرید پایین توضیحات

فرمت فایل word  و قابل ویرایش و پرینت

تعداد صفحات: 47

رسوب دهی لایه های نازک سخت ویا نرم

مقدمه

مورفولوژی یک پوشش بطور عمده به فناوری بکار گرفته شده بستگی دارد. بطور کلی روشهایی که در آن پوشش از فاز بخار رسوب داده می‌شوند. را می‌توان دو گروه اصلی تقسیم کرد روش رسوب شیمیایی بخار CVD و روش رسوب فیزیکی PVD بعلاوه از روشهایی به نام روشهای کمکی یا تحریک شده نیز استفاده می‌شود. بعنوان مثال روش کمکی پلاسمای رسوب شیمیایی بخار PA-CVD یا فرآیندهای دما توسط مانند روش دما متوسط CVD که با MT-CVD نمایش داده می‌شود نیز گسترش پیدا کرده است. همانطور که در شکل 5.1 نشان داده شده است بعنوان مثال به روشهای فوق مواردی مثل پرایدهای نسوز، کارمیدها، نیتریدها ،اکسیدها وترکیب های مختلفی از این گونه پوششها را میتوان رسوب داد.

5.2 روشهای رسوب شیمیایی بخار

5.2.1 طبقه بندی فناوریهای CVD

در روش رسوب شیمیایی بخار واکنش کننده ها بصورت گاز تامین شده و واکنشهای شیمیایی در اثر گرما در سطح زیر لایه گرم شده انجام می‌شوند. در روشهای CVD معمولا فرآیند در درجه ر600 تا 1100 درجه سانتیگراد انجام می‌شود هزینه فرآیندهایی که در درجه وارستای پایین تر نیز کار می کنند بکار گرفته شده است. در جدول 5.1 می‌توان روشهایی از CVD که بیشتر در صنعت ارز برش بکار می رود را ملاحظه کرد.

In به شکل سنتی خود فناوری CVD بدون فرآیندهای کمکی در فشار محیط مثل پوشش دهی در فشار محیط APCVD ,CVD یا در فشار پایین مثل پوشش دهی به فشار کم CVD استفاده میشود. از فناوری APCVD که به پوشش دهی با دمای بالای (HT-CVD) CVD نیز معروف است بعنوان پرمصرف ترین روش پوشش می‌توان نام برد.

در روش کلاسیک پوشش دهی CVD که از سال 1969 در صنعت بکارگرفته شد از در یک لحظه ای حفاظت شده از اتمسفر محیط،تحت گاز هیدروژن فشار 1 اتمسفر یا کمتر تا 1000C گرم می‌شود. همچنین ترکیبات تبخیر شدنی به اتمسفر هیدروژن اضافه می‌شوند. تا بتوان ترکیبات فلی وغیرفلزی را رسوب داد. یک جنبه مشترک تمام فناوریهای CVD افزودن عنصر مورد نظر در پوشش به شکل یک هالوژن مثل Tic4 در ورد لایه های Ti(cN) یا TiN ,Tic یا مخلوطی از هالوژنها مثل Ticl4 +Bcl3 در مورد لبه های TiB2 می‌توان نام برد.

5.2.2 روش تحت فشار اتمسفر رسوب شیمیایی بخار (APCVD)

وسایل بکار گرفته شده برای رسوب دهی لایه TiN به روش CVD در شکل 5.2 ارائه شده است در این روش یک محفظه واکنش گرم شده و وسایل انتقال گاز مورد نیاز است. در بیشتر موارد زیر لایه به روش هرفت یا تشعشعی ازداخل محفظه پوشش دهی گرم می‌شود. فرآیند با تغییر دادن درجه حرارت قطعات تحت پوشش ترکیب شیمیایی و فشار گانه ها کنترل میشود. همانطور که قبلا اشاره شد واکنشهای هالیه فلزات مثلا با هیدروژن ،نیتروژن یا متان. بکار گرفته می‌شود تا بتوان پوششهایی مثل انواع نیترید ها یا کاربیدهای فلزات را ایجاد کرد.

بعنوان مثال واکنشهای ذیل برای ایجاد پوششهای به ترتیب نیترید نتیتانیوم وکاربید تیتانیوم بکار گرفته می‌شود:

(1)

پاورپوینت در مورد بررسی آزمایش رسوب ادرا ر

اختصاصی از یارا فایل پاورپوینت در مورد بررسی آزمایش رسوب ادرا ر دانلود با لینک مستقیم و پر سرعت .

فرمت فایل :powerpoint (لینک دانلود پایین صفحه) تعداد صفحات 140صفحه

•رایج ترین آزمو ن آزمایشگاهی جهت تفسیر بیماریهای کلیوی یا مجاری ادراری بررسی  رسوب ادراری است

 •در ارزیابی بیماری کلیوی، نمونه ادرار اول صبح ارجح است

 •همچنین  در خصوص خانم ها، بمنظورجلوگیری ازآلودگی با ترشحات واژن ، نمونه وسط ادرار با ارزشتر است

•هدف آن تجسس و شناسایی مواد غیر محلول در ادرار می‌باشد

 •گلبولهای قرمز و سفید ، سیلندرها ، سلولهای پوششی ، باکتریها ، مخمرها ، انگلها و موکوس ، اسپرماتوزوئید و کریستال ها

•شروع تخریب سلولها و سیلندر ها در طی 2ساعت بعد از نمونه گیری میباشد

 • در صورت تاخیر در انجام آزمایش،لازم است نمونه در یخچال گذارده شود

دانلود تحقیق رسوب گیر

اختصاصی از یارا فایل دانلود تحقیق رسوب گیر دانلود با لینک مستقیم و پر سرعت .

لینک دانلود و خرید پایین توضیحات

فرمت فایل word  و قابل ویرایش و پرینت

تعداد صفحات: 127

5-1- شناسایی دستگاه:

رسوب گیرهای الکترواستاتیک به منظور دور کردن موارد ریز خشک از جریانات گازی استفاده می شوند. آنها اساساً یک بار الکترواستاتیک در ذرات به کار می برند و سطح صافی را فراهم می کنند برای اینکه ذرات به سمت صفحه جمع آوری کشیده شوند و گیر بیفتند. به این صفحات جمع آوری کننده به طور گهگاهی ضربه وارد می شود تا ذرات جمع شده در داخل قیف تصفیه را جدا سازد.

5-2- کاربردها و مصارف معمول:

رسوب گیرهای الکترواستاتیک خشک برای دور کردن مواد ریز از جریانات گازی که از کوره های سیمانی ، دیگ های بخار قوی چندکاره و صنعتی ، کراکرهای کاتالیزوری ، ماشین های تراش کاغذ ، کوره های شیشه پزی و دستگاههای صنعتی دیگر خارج می شود ، استفاده می گردد.

رسوب گیرهای الکترواستاتیک دارای فشار ثابتی هستند و هر بار به طور متغیری ذرات ریز را جدا می کنند و می توان بازدهی خوبی برای انجام این کار از آنها انتظار داشت.

البته کارخانه های مخصوصی نیاز به این دستگاه دارند. اگر شما در فکر خرید یا مطالعه بروشور شاید موارد گفته شده در زیر بتواند سودمند باشد. این کلمات مطابق حروف الفبا بیان شده و اگر شما معنی یکی از این کلمات را نفهمیدید فقط لازم است که آن کلمه را در لیست بیابید و آن کلمه سخت را معنی کنید.

شکل 5-1- رسوب گیر الکترو استاتیک در حال کار

کلید تقسیم کننده هوا : کلید تقسیم کننده هوا با ولتاژ بالا نصب می شود و یکسو کننده ترانسفورماتور را هم شامل می شود. کار این کلید جدا کردن یکی از دو بخش الکتریکی است که به وسیله ی یکسو کننده ترانسفورماتور کار می کند و بقیه را هم به کار می اندازد.

سپر ( مانع ) آشکار : یک مانع یا منحرف کننده که مانع از این می شود که گاز منطقه مربوط به رسوب گیر را نادیده بگیرد.

قوس الکتریکی : قوس های الکتریکی در سیستم های با ولتاژ بالا و در نتیجه جرقه های الکتریکی کنترل نشده به وجود می آیند. جریان های برق قابل شناسایی هستند اما به اجزاء داخلی آسیبهایی وارد خواهد شد.

ضریب بعد : طول برخورد به وسیله ی ارتفاع برخورد تقسیم می گردد. هرچه این مقدار بیشتر باشد بازدهی کار نیز بیشتر می شود.

کرونای پشتی : در صورتی به کار می رود که از خاکهایی با مقاومت بالا استفاده شود. در نتیجه بالا بودن مقاومت خاک ، کاهش ولتاژ در عرض لایه های خاک روی صفحه جمع آوری اتفاق می افتد. استفاده از جریان برق در این قسمت باعث ایجاد بار روی سطح لایه خاک می شود تا وقتی که ولتاژ خاک به دست آمده قطع شود. در این لحظه ، افزایش ناگهانی جریان در سطح خاک و صفحه جمع آوری ذرات به وجود می آید که باعث محدود شدن گرمای خاک می شود. گرد و خاک از پشت به داخل جریان گاز فوران می کند و باری را برخلاف الکترون ها و یونهای گازی به وجود می آورد. این باعث می شود تا بازدهی جمع آوری ذرات کاهش یابد و مقدار گرد و خاک ها زیاد شود.

قسمت گذرگاه : کوچکترین بخش الکتریکی جدا کننده در دستگاه رسوب گیر.

بدنه : یک جایگاه مخصوص گازهای کم حجم و فشرده که صفحات جمع آوری ذرات و الکترودهای بدون بار در آن مستقر هستند.

حفره ( محفظه ) : یک بخش مکانیکی ثابت که به وسیله ی یک تیغه در جهت جریان گاز از هم جدا می شود این تیغه یا یک دیوار ضدگاز است یا یک بخش ساختاری باز.

بام سرد : این یک سطح متحرک است که درست در بالای بام گرم قرار دارد.

سطح مخصوص جمع آوری ذرات : یک قسمتی از دستگاه است که ذرات ریز در آن جمع می شوند. همچنین معروف است به صفحه جمع آوری یا پانل.

کرونای بدون بار : سرچشمه گرفتن الکترون ها و یونهای گازی از الکترود بدون بار و حرکت به سمت صفحات جمع آوری. کرونا بعد از اینکه